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大容量光催化反應儀CN-GHX-B

簡要描述:大容量光催化反應儀CN-GHX-B,光化學反應儀, 又稱為光化學反應釜,多功能光化學反應器.主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。

  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-02-18
  • 訪  問  量:79

詳細介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間2萬-5萬
工作壓力常壓儀器材質其它
產地類別國產應用領域環(huán)保,化工,生物產業(yè),制藥,綜合

大容量光催化反應儀CN-GHX-B主要特征:

1光化學反應儀具有智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實時變化。

2.進口光源控制器,內置光源轉換器,功率連續(xù)可調,穩(wěn)定性高。

3.光化學反應儀具有分步定時功能,操作簡便。

4.反應暗箱內壁使用防輻射材料,且?guī)в杏^察窗。

5.采用內照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質,經久耐用。

6.配有8(6/12可選)位磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光。

7.雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)維持反應溫度。

8. 光化學反應儀高溫度保護系統,自動斷電功能。

9.機箱外部結構設有循環(huán)水進出口,內部設有2個專用插座,供燈源和攪拌反應器用。

大容量光催化反應儀CN-GHX-B

光化學反應儀的日常維護對于確保設備的長期穩(wěn)定運行和實驗結果的準確性至關重要。以下是光化學反應儀日常維護的一些關鍵步驟和注意事項:
1. 清潔與保養(yǎng)
  反應器清潔:每次使用后,及時清理反應器內部,避免殘留物積累。使用適當的溶劑(如水、乙醇等)清洗反應器,確保無殘留。
  光源清潔:定期檢查光源(如汞燈、氙燈等)表面是否有污垢或灰塵,使用干凈的軟布或鏡頭紙輕輕擦拭,避免劃傷光源表面。
  光學元件清潔:定期檢查光學元件(如透鏡、濾光片等)的清潔度,使用專用的光學清潔劑和軟布進行清潔。
2. 光源檢查與更換
  光源壽命監(jiān)測:定期檢查光源的使用時間,記錄光源的使用壽命。大多數光源(如汞燈、氙燈)有一定的使用壽命,超過使用壽命后應及時更換。
  光源性能檢查:定期測試光源的輸出功率和光譜特性,確保光源性能穩(wěn)定。如果發(fā)現光源輸出功率下降或光譜異常,應及時更換光源。
3. 冷卻系統維護
  冷卻液檢查:如果設備配備冷卻系統,定期檢查冷卻液的液位和質量,確保冷卻系統正常運行。冷卻液不足或污染會影響設備的散熱效果,導致光源過熱或損壞。
  冷卻系統清潔:定期清潔冷卻系統的散熱器和風扇,確保散熱效果良好,避免設備過熱。
4. 電氣系統檢查
  電源線檢查:定期檢查電源線和連接線是否有磨損或老化現象,確保電氣連接安全可靠。
  電路板檢查:定期檢查設備的電路板和電子元件,確保無松動或損壞。如果發(fā)現異常,應及時聯系專業(yè)人員進行維修。
5. 軟件與控制系統維護
  軟件更新:如果設備配備控制軟件,定期檢查是否有軟件更新,及時升級軟件以獲得最新的功能和修復已知問題。
  參數校準:定期校準設備的控制參數(如溫度、光照強度等),確保實驗條件的準確性和可重復性。
6. 環(huán)境維護
  工作環(huán)境清潔:保持設備工作環(huán)境的清潔,避免灰塵和污染物進入設備內部,影響設備的正常運行。
  溫濕度控制:確保設備工作環(huán)境的溫度和濕度在設備規(guī)定的范圍內,避免環(huán)境條件對設備造成損害。
7. 定期檢查與維護記錄
  定期檢查:制定定期檢查計劃,按照設備說明書的要求進行全面的設備檢查和維護。
  維護記錄:詳細記錄每次維護的時間、內容和發(fā)現的問題,便于跟蹤設備的運行狀態(tài)和維護歷史。
8. 專業(yè)維護
  定期專業(yè)維護:建議定期聯系設備制造商或專業(yè)技術人員進行全面的設備檢查和維護,確保設備處于最佳工作狀態(tài)。
通過以上日常維護措施,可以有效延長光化學反應儀的使用壽命,確保實驗結果的準確性和可靠性。

 

大容量光催化反應儀CN-GHX-B技術參數:

型號:CH-GHX-BC大容量控溫光化學反應儀

(一)主體部分

1.光源功率可連續(xù)調節(jié)大小。

2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調節(jié)。

4.氙燈功率調節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調節(jié)。

5.金鹵燈功率調節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調節(jié)。

(二)d容量反應部分

1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

(三)控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量:>1000W

2.控溫范圍:-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設有腳輪和底部排液閥。


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